钨酸锆薄膜

薄膜材料是指厚度小於1微米的膜材料，它主要用於半導體功能器件和光學鍍膜，目前已涉足的領域有電腦存放裝置，醫藥品，高溫隔熱產品、薄膜電池，太陽能電池等。

薄膜材料與傳統的塊體材料相比，有不可比擬的優越性，如晶粒細小、比表面積大和特殊的表面結構等，因此，對材料的選擇的也就更加精益求精，鎢酸鋯是一種優異的負熱膨脹材料，用鎢酸鋯製備的薄膜可以方便地用於熱穩定結構的補償層或製成大容量的熱驅動器件，這也是其它普通材料難以望其項背的優勢，所以這些年來鎢酸鋯薄膜或鎢酸鋯複合材料薄膜也一直是被關注和研究的熱點。

眾所周知，鎢酸鋯主是要由仲鎢酸銨和氧氯化鋯合成制取的產品，粉體的制取困難的阻礙鎢酸鋯薄膜普及推廣的主要障礙，那麼到底有多麻煩呢？

研究表明，製備鎢酸鋯薄膜的方法主要有：電流束蒸發粉狀法；濕化學法；射頻磁控濺射法；交替射頻磁控濺射法。其中，電流束蒸發粉狀法的蒸發過程不好控制、WO₃高溫易揮發等原因，導致薄膜元素含量與Zr₂W₂O₈靶材的化學計量比不一致；濕化學法和射頻磁控濺射法所制的鎢酸鋯薄膜純度均不太高；唯一值得一提就是以射頻磁控濺射法為基礎改進升級的交替射頻磁控濺射法，該法在石英基片上沉積並退火製備了鎢酸鋯薄膜，所得樣品為立方相鎢酸鋯薄膜，純度和品質均有提高，但相對應的是程式增加導致成本上升。

綜上所述，鎢酸鋯薄膜以其優異的性能在未來的高新技術領域必將佔有一席之地，但尚無成熟廉價的制取方案也限制了其用武之地，但是，做為一種新生事物，鎢酸鋯薄膜的研究還處於起步階段，它的未來是值得期待的。

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