塗層製備方法對W基材料氧化行為的影響
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- 發佈於:2023-05-02, 週二 17:35
- 作者 Caodan
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研究人員總結了不同W基材料塗層製備方法對塗層組成和氧化行為的影響。可以看出,矽化物塗層主要由一個厚的WSi2層和一個薄的W5Si3層組成。由於擴散溫度相對較低,HAPC塗層需要更長的時間。在1100℃下處理4~15小時後,塗層的厚度只有30~60 µm。然而,使用CVD技術,在1200℃下沉積0.5~1小時,塗層的厚度可以達到50~80 µm。相比之下,HDS技術的塗層製備效率非常高。通過在1500℃下沉積0.25~0.42小時,可以得到厚度為36~88 µm的塗層。
使用熱浸鍍矽法製備Si-WSi2塗層
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- 分類:鎢新聞
- 發佈於:2023-05-01, 週一 12:45
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研究人員通過熱浸鍍矽法(HDS)在鎢基材上製備Si-WSi2塗層。HDS是在高溫下,將固體滲源放入坩堝中,加熱至完全熔化,並保持一定時間的溫度。然後將加工好的樣品慢慢放入坩堝中,通過基材和熔體之間的相互滲透在基材表面形成塗層。這種方法被認為是一種經濟有效的塗層製備方法,它具有製備時間短、沉積溫度高、塗層成分均勻、表面光滑、結構緊湊等特點。
W基合金的抗氧化塗層
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- 發佈於:2023-04-30, 週日 15:56
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W基合金表面的抗氧化塗層塗層技術是材料表面氧化保護的重要措施,已被廣泛應用於難熔金屬的氧化保護。其中,鹵化物活化包固法(HAPC)、化學氣相沉積(CVD)技術、熱浸矽化(HDS)技術因其優良的工藝條件,在W基材料的氧化保護方面贏得了更多研究者的青睞。
通過CVD製備的WSi2/β-SiC納米複合塗層
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- 發佈於:2023-05-01, 週一 12:40
- 作者 Caodan
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WSi2/β-SiC納米複合塗層可通過兩步化學氣相沉積(CVD)工藝獲得的。EPMA結果顯示,碳化物塗層由WC層和W2C層組成,相應的厚度分別為2和17µm。隨後在1200℃下矽化30分鐘,得到了厚度約為50µm的WSi2層。