高純鎢鈦靶材的新製備方法
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- 分類:鎢的知識
- 發佈於:2021-12-01, 週三 13:39
- 作者 Xiaoting
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作爲集成電路中重要的擴散阻擋層,鎢鈦(W-Ti)薄膜雖然有較高的密度和良好的化學穩定性,但因爲鎢鈦靶材存有污染物粒子,所以薄膜欠佳。爲了降低靶材的污染物,研究者提出了一種高純鎢鈦靶材的新製備方法,具體步驟如下:
作爲集成電路中重要的擴散阻擋層,鎢鈦(W-Ti)薄膜雖然有較高的密度和良好的化學穩定性,但因爲鎢鈦靶材存有污染物粒子,所以薄膜欠佳。爲了降低靶材的污染物,研究者提出了一種高純鎢鈦靶材的新製備方法,具體步驟如下:
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