三酸化タングステンは触媒にケトン収率を調製するのははWO3の繰り返し使用性に影響を受ける。理想のWO3の触媒剤は高い選択で、良好な抗酸化安定性があるべきだ。だから、WO3の触媒剤の繰り返し使用の性能は非常に重要なことである。解媒の調整する過程の中で、反応が終わり時、触媒剤が回収される。そして、分離したWO3は80℃で1.5hを乾燥して、100℃で0.5hを乾燥し、そして繰り返し使用を行う。以下のデータはWO3繰り返し使用の回数がケトンの収率に影響するの分析：

以上の表のデータを見抜くことができて、WO3は繰り返し5回を使って、ケトンの収率が80％以上である。これはWO3が良好な繰り返し実用性があることが説明することができる。

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電界変色フィルムの材料は各種の有機と無機の化合物を含んでで、その中に研究が最も多く酸化タングステンである。その主要な調整方法は真空熱蒸発、電子ビーム蒸発、スパッタ、気相沈澱、電着沈澱とゾルゲル法などである。電界変色フィルムは一定温度の熱処理を加えて、その接着性と循環使用の寿命を高めることができる。しかし、高温で熱処理を加えてはフィルムの応答時間と変色幅に影響する。

一般的物理の調製方法は高い温度の熱処理を経て、例えば電子ビーム蒸発法が500e熱処理が必要です。スパッタリング法が200～300e必要である。これらの方法はコストが高く、技術が複雑で、およびよく工芸の条件の要求が高いから、一定の制限を受ける。化学の調製方法の中でゾルゲル法は設備が簡単に、フィルムが均一および大面積に調製しやすい低温の調製方法である。しかし、一般的100e以上の熱処理が必要である。例えばアルコール塩法は250eの熱処理で、イオン交換法が150eで、ハロゲン法は120e必要である。

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（1）空気の浄化：常温でナノ酸化タングステンは触媒を作る。空気中の酸素と水蒸気などは汚染物質に酸化さらて空気がきれいになる。例えば、硫化物、窒化物、有機物などの有害ガスである。このほか、産業の排気ガスは光触媒の分解を行うなどである。

（2）防霧：ナノ酸化タングステンフィルムは基片上にめっきて、粉体のナノ酸化タングステンに比べる。その比表面積が大きいので、親水性はとても良い。大量の水蒸気は酸化タングステンフィルムに滴て均一の水膜を形成するとき、強烈な紫外線の光はナノ酸化タングステンのフィルムが強い酸化させる能力になる。だから、吸着の大量の有機物は汚染のない水と二酸化炭素を分解することができる。

（3）抗生物質：ナノ酸化タングステンは光触媒の過程の中で大量の光電と光生正孔を生むことができる。上の発生のフォトエレクトロンと光生正孔を利用して光触媒の表面の吸着水を酸化されてライト基とマイナスイオン酸素二を形成する。それは細菌の細胞あるいは細く菌内組分と反応して、細菌を徹底的に殺す。このように有効なのウイルスの釈放有毒汚染物質、汚染をを再び防止することができる。

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