WO3薄膜的研究与应用（一）

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カテゴリ: 钨业知识
2015年2月06日（金曜）09:51に公開
作者: cq
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三氧化钨薄膜具有良好的电致变色性能，并在电致变色领域得到了广泛的应用；同时，人们发现三氧化钨薄膜还具有许多其它优异的性能，以下分别作以简单介绍。
 
（1）光致变色
 
三氧化钨薄膜在紫外光照射下，能变为蓝色，在加热条件下又可以恢复到无色状态，表明三氧化钨薄膜是一种很好的光致变色材料。光致变色材料可用于光信息存储、生物分子活性的光调控、露光计、自显影感光胶片和全息摄影材料、光计算、防伪与装饰材料、印刷板、伪装材料和鉴伪等领域。下面以其在光全息存储方面的应用为例进行简单的说明。
 
光致变色材料曝光时，光致变色膜层的折射率将发生变化，尤其是记录波长与介质吸收谱非共振时，膜内部折射率可产生显著的变化。此时全息的衍射效应主要来源于折射率变化而不是介质吸收的改变。此时，光致变色材料可看作位相型记录材料。光致变色材料具有无颗粒和宽的动态范围特征，分辨率仅受一记录光的波长的限制，并且，记录光功率足够强，则不必采用干法或湿法显影，而只需光照就可以在原位记录或擦出全息图。
 
（2）催化降解
 
近年来，半导体氧化物光催化作为一项新的污染治理技术，日益受到重视。与其它方法相比，该方法具有高效节能、清洁无毒、无二次污染和工艺简单等特点，在污水处理及生活用水的深度处理等方面有着广阔的应用前景。w03的禁带宽度较低，利用可见光就能达到较好的降解效果。鉴于环境保护及可持续发展的要求，这是一个很有意义的研究与应用领域。
 
 
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