WO3ナノ材料の応用（Ⅱ）
- 詳細
- カテゴリ: タングステン知識
- 2015年6月19日（金曜）17:44に公開
- 作者: yanmei
- 参照数: 1536
【気敏変色、気敏材料での応用】
W03は典型的な电致变色材料であるとともに、常用な気敏材料であり、近年以来開発された優良な気敏特性と気致変色特性の半導体材料である。超音波噴霧熱分解変換法で取った粉末は細かくて、比表面積が大きいから、極面効果、体積効果及び量子効果は良い気敏特性を表す。W03は水素とアルカリ金属イオンを反応られる。Ptに接するWO3気敏件は空気で絶縁するから、消耗した電量は微小で、特に、水素暴露をモニターに適する。
【触媒活性材料での応用】
WO3は重要な触媒活性材料である。 WO3は、プライマリ触媒として優れた触媒性能を有しており、多くのプロパティのための共触媒反応WO3効率的な選択肢として使用られる。
研究では、純粋なWO3は金属の性質欠如するから、何かの触媒機能もない。一般的に、純粋なWO3成分組分を還元し、触媒特性を改善するために有効成分のドーピング添加又は変更して、触媒機能を向上する。
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WO3ナノ材料の応用（Ⅰ）
- 詳細
- カテゴリ: タングステン知識
- 2015年6月19日（金曜）17:43に公開
- 作者: yanmei
- 参照数: 1569
【電致変色での応用】
エレクトロクロミック材料は、可視光の色の影響を吸収することにより発生する電界の影響下で起こるを意味する。 WO 3は、最初の何の研究エレクトロクロミック材料の材料ではありません。
電致変色は電場の影響で、材料は可逆電気化学反応して生まれた可視光を吸収する状況。WO3は無機電致変色材料で最も早く研究される材料である。
電致変色材料は可逆性があり、電圧と電流の制御の下その光学特性を変えることができる。
W03とH+またはLi+ときは、一緒に灰青色を示し、光のタングステン酸化物の吸収と反射を低減電子を吸収する。
WO3膜は低電圧デバイス、ガスセンサー、宇宙船の反射防止コーティングおよび赤外線放射調整や他の分野に広く応用される。
特に最近の数十年で、W03電致変色材料は太陽能器件での広範的な応用は大きいポテンシャルを持って、自動車の研究と制御可能な太陽のウィンドウに焦点を当てる。
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WO3ナノ粉末の製備方法（Ⅰ）
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- カテゴリ: タングステン知識
- 2015年6月19日（金曜）17:40に公開
- 作者: yanmei
- 参照数: 1566
【固相法】
固相反応は、通常、所望の生成物の最終的な合成、および超粉末、または再度粉砕した超微細粉末のその後焼成温度固相反応により、原料の混合比、セラミック材料を製造するための基本的な手段である。100runW03粉。
超微粒子の固相分解プロセスの準備、簡単なものの、しかし、分解プロセスは、環境汚染を引き起こして、いくつかの有毒ガスを生成することが容易であり、得られた粉末は、再び増加コストを破砕するために、参加するのは簡単だった。
【液相法】
液体製剤ナノ粒子の共通特徴は、様々な方法を介して、それにより熱分解した後、得られた前駆体粉末を得るために必要な溶質粒子の特定の形状およびサイズを形成する。
液体成核、二つ成長階段は簿膜、粒子、ウィスカーなどの固体相法するなら、正確に製品組成および粒子のサイズを支配できる。主に沈殿、熱水法、マイクロエマルジョン法、ゾル - ゲル法など分ける。
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WO3ナノ粉末の製備方法（Ⅱ）
- 詳細
- カテゴリ: タングステン知識
- 2015年6月19日（金曜）17:42に公開
- 作者: yanmei
- 参照数: 1696
【気相法】
気相法は直接気体或いは様々な手段で物質を気体になされ、気体状態で物理反応或いは化学反応を生まれ、最後に、冷却中大きくなってナノ微粒になる方法である。
【超音波噴霧熱分解変換法】
まずH2WO4を一定の割合で、アンモニアを含むアルカリ性水溶液中に溶解し、80`Cまで加熱する。保温20分のあと、超音波噴霧熱分解変換し、WO 3粉末を直接調製できる。
調製法：溶液の調製～超音波噴霧熱分解変換〜剪断粉砕真空乾燥～真空乾燥。
熱変換粒径によって得られた超音波噴霧粉末は、大きな表面積が非常に小さく、それは水を容易に吸収することができるので、得られた粉末と剪断湯を噴霧する前に粉末を真空表面に吸着した水を除去するために乾燥されるべきで粉砕した。だから、この方法は、特定の危険性がある。
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WO3ナノ材料の製備方法（Ⅳ）
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- カテゴリ: タングステン知識
- 2015年6月19日（金曜）17:39に公開
- 作者: yanmei
- 参照数: 1656
【電堆積法】
電堆積法は電解液の中で、電流を入れて電解し、作用電極表面でWO3膜を得ることができる。 他の方法により、装置しやすい、強い支配性の有利点があるが、成膜面積に影響されるから、成膜面積がより小さい。
【他の方法】
他に、WO3薄膜の製備方法は陽極酸化法、表面溶射、光化学、スクリーン印刷、低エネルギクラスタービーム蒸着法、湿式電気化学堆積法などある。
【概述】
上記の調製方法を概要した、安定してスパッタリング法は使いやすく、速く、膜の均一性やその他の特性を持つ。蒸着法でも利点速く、安定した、高純度の膜を有しているが、巨大な機器があり、表面溶射の高価な問題は、大面積のコーティングの均一性を確保することが困難である。ゾルゲル法は、低コスト、簡単な操作、および工業化支配できる。
このように、ゾル - ゲル法は、WO3膜製備の最も競争力がある方法になる。
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