Mo- 도핑 된 텅스텐 트리 옥사이드 나노 필름은 인 시츄 (in-situ) 열 산화 분무에 의해 제조 될 수있다. 이 중 원료가되는 산화 텅스텐은 단순한 녹색 용액 법으로 제조 할 수 있으며, 얻어지는 나노 입자는 약 20 nm 크기로 물에 균일하게 분산되어 안정한 나노 잉크를 형성 할 수있다. 그렇다면 왜 도핑 된 텅스텐 산화물 전기 변색 막을 제조하기 위해 현장 열 산화 분무 기술을 사용합니까?

ＷＯ ３ナノロッドアレイフィルムは、エレクトロクロミック材料である。 一部の専門家は、従来のＷＯ ３シード層をＦＴＯ格子と一致するＴｉＯ ２シード層で置き換えることによってそのようなエレクトロクロミックフィルムを調製した。 得られたＷＯ ３フィルムは、大きな光変調範囲、高い着色効率、および著しく改善されたサイクル安定性を有する。

WO3 나노로드 어레이 필름은 전기 변색 물질입니다. 일부 전문가들은 기존의 WO3 시드 층을 FTO 격자와 일치하는 TiO2 시드 층으로 대체하여 이러한 전기 변색 필름을 준비했습니다. 생성 된 WO3 필름은 큰 광 변조 범위, 높은 착색 효율 및 상당히 향상된 사이클 안정성을 갖는다.

ナノＷＯ ３エレクトロクロミックフィルムは、水熱法などによって調製することができる。 現在、多くの研究が水熱法を用いて様々なナノＷＯ ３フィルムを調製している。 しかしながら、ＷＯ 3膜の水熱調製は複雑であり、工程は煩雑であり、そして高温および長期間の反応がしばしば必要とされ、そして導電性基体の表面上に被覆されたシード層は高いことが要求される。 さらに、高温高圧調製条件は導電性基材の選択を制限する。