三酸化タングステンの触媒剤を調製する

負荷の三酸化タングステンの触媒を調製するの工芸はほとんどOCTの工芸に基づいて、このプロセスは主にブテン- 1異性は生成する2 -ブテンや2 -アルブチンとビニルい化制アクリルの2つの段階を含む。採用の異性触媒はMgOで、触媒は三酸化タングステン(WO3)である。

負荷の三酸化タングステンの触媒剤を調製する時、三酸化タングステンとブテン- 1の2ブテン原料として反応を行ってエチレンを作る。MgOとWO3と一緒に使う時、MgOはブテン- 1異性を2ブテンになることを促すことができるだけではなく、反応の活性化も増加する。調製する過程の中で、まず三酸化タングステンとブテン- 1の2ブテン原料とビニル中の含酸素化合物を固定床アルミナ(表の面積は約200-500㎡/ g)をのぞって、そして異性触媒Mgo後原料に異性化段階(MgO表面積>1㎡/ g)を入れる。反応の前に、触媒剤はまず含んで酸素の気流高温の活性化30hごろでり、不活性ガスは吸着の酸素分子を除く。そして、最適化によって反応温度を通して、液時空速と循環などの条件は反応して負荷型の三酸化タングステンの触媒剤を得る。

三酸化タングステンの触媒剤

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三酸化タングステンフィルムの光電極を調製する

三酸化タングステンフィルムの光電極の調整するのは陰極の電着法を採用する。電解液の中では0.025Mのタングステン酸ナトリウム、0.03Mのオキシドール(30%)と0.05Mの硝酸(65%)を構成する。溶剤は水である。イソプロパノール=7:3、電着は三電極体係を採用し、Pt電極は対電極にして、飽和カロメル電極(SCE)を参照電極、きれいに洗い、酸化インジウム錫(ITO)導電ガラスを仕事電極である。

電着の調製の過程で温室の条件を行って、含むの0.025Mのタングステン酸、0.03Mのオキシドール(30%)と0.05Mの硝酸(65%)の電解質は電着をする。また、電圧は0.6Vで、沈澱時間は1hで、靑い無定型の三酸化タングスンフィルムを得られる。そして、空気の中で乾かした後、無定型の三酸化タングスンフィルムはマッフル炉の中を置く。この時期の加熱速度が約2℃/ minで、450℃の環境で焼きなまし3hを処理して、最後に三酸化タングステンフィルムの光電極を得られる。

三酸化タングステン

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する-WO3の用量

ケトンは重要な化学工業の原料であり、主にカプロラクタムとアジピン酸を生産に用いる。また、塗装、インク、セルロース、合成樹脂、合成ゴムおよびシンナーなどを用いる。無相転移剤、無酸性リガンドの条件の下で、30%のオキシドールは酸素の源として、メタノールは溶剤にして、単独では三酸化タングステンを使ってシクロヘキサノール合成キクロハイケンワンを触媒する。解媒の過程に、いずれも分離しやすく、解媒を克服するの欠点がある。

解媒の過程の中で、三酸化タングステンの用量は製品の収率に対して一定の影響がある。三酸化タングステンの用量は0.50mmol時、溶液の酸性が低く、活性中心の数が少ないため、ケトンの収率は低い。しかし、触媒剤の使用量を増加に伴って、溶液の酸性が強化し、活性中心の数も増える。また、三酸化タングステンの用量が1mmolに増える時、反応に必要な活性中心数を提供することができて、ケトンの収率は73.5%に達する。しかも、三酸化タングステンの使用量は再び増加に従って、ケトンの収率は明らかに高めしない。だから、三酸化タングステンの用量の過程の中で、無限量の触媒剤の用量を増加するのはケトンの収率をを上げられなく、三酸化タングステンの量を抑えるべきだ。そして、0.50mmol-1mmolを維持して、ケトンの生産量を確保する。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する-反応時間

三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、違う反応時間もケトンの収率に一定の影響がある。

表1で、反応時間はケトンの収率に影響する

    反応時間/h

  WO3の用量/mmol

      ケトンの収率/%

            1

                1

              26.7

            2

                1

              65.1

           3

                1

             73.5

          5

                1

             74.3

         3

                1

             55.3

        3

                1

             74.6

以上の表のデータを見抜くことができて、三酸化タングステンの触媒剤の使用量が一定の時に、反応時間は1hから3hまでに至る時、ケトンの収率が大幅に向上し、73.5 %に達する。そして、反応時間を再び増加して、ケトンの収率の変化がはっきりしない。一定の反応時間に達する時、この反応が十分果すうだけである。また、反応時間は3hに達する時、反応係が平衡に傾いて、すでに最大の転化率に達成する。明らかに、反応時間はケトンの収率に影響を与える。高い生産能力のケトンを得られる他名に、反応時間は3hを設定するべきだ。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する-オキシドール量

三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、オキシドールの使用量はケトンの収率に一定の影響がある。

表1はオキシドール用量はケトンの収率に影響する

オキシドール用量/mL

  WO3の用量/mmol

 ケトンの収率/%

    15

      1

   26.7

    15

      1

   65.1

    15

      1

   73.5

    15

      1

   74.3

    10

      1

   55.3

    20

      1

   74.6

以上の表のデータを見抜くことができて、三酸化タングステンの触媒剤の使用量が一定で、オキシドール量の増加に従って、ケトンの収率が増える。オキシドールの用量は15mL時に、ケトンの収率は73.5 %に達した。そして、オキシドールの使用量を再び増加して、ケトンの収率は緩やかに増加する。したがって、オキシドールの用量は増加すぎて、ケトンの収率があまりさらに高めない。だから、オキシドールの使用量は15mLに維持するべきだ。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する―メタノール使用量

三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、適切な溶剤を选択するには反応が非常に重要なことである。だから、違い溶剤はケトンの収率の影響をシステムに考察する。表1中のデータを見抜くことができて、メタノールは、この反応のベスト溶剤である。

表1違い溶剤はケトンの収率に影響する:

               溶剤

溶剤がない

  メタノール

    エタノール

   アセトン

      ケトンの収率/%

      73.5

     88.0

        65.2

    61.2

表2メタノール用量はケトンの収率に影響する:

      メタノール用/mL

       ケトンの収率/%

    反応時間/h

                 5

                  88.0

             3

                10

                  84.1

             3

                15

                 65.8

             3

表1から見ると、メタノールはこの反応の最高の溶剤である。メタノール使用量はケトンの収率の影響をさらに考察する。また、表2のデータから見抜くことができて、メタノール使用量の増加に伴って、ケトンの収率は次第に低下する。メタノール使用量の増加につながるため、反応物の濃度が低下し、ケトンの転化率を下げて、それによってケトンの収率も低下する。だから、5mLはメタノールの最高用量である。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する- WO3の結晶

三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製するさまざまな要素に影響を受ける。さらに違い晶型のWO3の触媒剤はケトンの収率の影響を考察するために、表を分析し:

  触媒剤

 焼温度/℃

  結晶

     ケトンの収率/%

メタノールに入らない

5mLのメタノールに入る

 WO3-200

  200

 斜方晶係

  69.6

  84.2

 WO3-300

  300

 六方晶係

  72.3

  83.8

 WO3-400

  400

 三斜晶係

  78.7

  84.9

 WO3-500

  500

 三斜晶係

  78.0

  85.4

 WO3-600

  600

 単斜晶係

  73.5

  88.0

以上の表を見ると、焼成温度の変化につれて、触媒剤WO3の結晶が変わって、しかし、ケトンの収率の変化は明らかではない。WO3の結晶はこの反応が影響に大きくない説明することがでる。しかし、メタノールの溶剤を加入する時、ケトンの収率はない溶剤により高める。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する- WO3実用性

三酸化タングステンは触媒にケトン収率を調製するのははWO3の繰り返し使用性に影響を受ける。理想のWO3の触媒剤は高い選択で、良好な抗酸化安定性があるべきだ。だから、WO3の触媒剤の繰り返し使用の性能は非常に重要なことである。解媒の調整する過程の中で、反応が終わり時、触媒剤が回収される。そして、分離したWO3は80℃で1.5hを乾燥して、100℃で0.5hを乾燥し、そして繰り返し使用を行う。以下のデータはWO3繰り返し使用の回数がケトンの収率に影響するの分析:

WO3使用回数

ケトンの収率/%

反応時間/h

1

88.0

3

2

87.5

3

3

86.3

3

4

84.6

3

5

83.6

3

以上の表のデータを見抜くことができて、WO3は繰り返し5回を使って、ケトンの収率が80%以上である。これはWO3が良好な繰り返し実用性があることが説明することができる。

 

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低温で酸化タングステンの電界変色フィルムを熱処理を加える(Ⅱ)

電界変色フィルムの材料は各種の有機と無機の化合物を含んでで、その中に研究が最も多く酸化タングステンである。その主要な調整方法は真空熱蒸発、電子ビーム蒸発、スパッタ、気相沈澱、電着沈澱とゾルゲル法などである。電界変色フィルムは一定温度の熱処理を加えて、その接着性と循環使用の寿命を高めることができる。しかし、高温で熱処理を加えてはフィルムの応答時間と変色幅に影響する。

一般的物理の調製方法は高い温度の熱処理を経て、例えば電子ビーム蒸発法が500e熱処理が必要です。スパッタリング法が200~300e必要である。これらの方法はコストが高く、技術が複雑で、およびよく工芸の条件の要求が高いから、一定の制限を受ける。化学の調製方法の中でゾルゲル法は設備が簡単に、フィルムが均一および大面積に調製しやすい低温の調製方法である。しかし、一般的100e以上の熱処理が必要である。例えばアルコール塩法は250eの熱処理で、イオン交換法が150eで、ハロゲン法は120e必要である。

 

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低温で酸化タングステンの電界変色フィルムを熱処理を加える(Ⅰ)

電界変色フィルムの材料は各種の有機と無機の化合物を含んでで、その中に研究が最も多く酸化タングステンである。その主要な調整方法は真空熱蒸発、電子ビーム蒸発、スパッタ、気相沈澱、電着沈澱とゾルゲル法などである。電界変色フィルムは一定温度の熱処理を加えて、その接着性と循環使用の寿命を高めることができる。しかし、高温で熱処理を加えてはフィルムの応答時間と変色幅に影響する。

一般的物理の調製方法は高い温度の熱処理を経て、例えば電子ビーム蒸発法が500e熱処理が必要です。スパッタリング法が200~300e必要である。これらの方法はコストが高く、技術が複雑で、およびよく工芸の条件の要求が高いから、一定の制限を受ける。化学の調製方法の中でゾルゲル法は設備が簡単に、フィルムが均一および大面積に調製しやすい低温の調製方法である。しかし、一般的100e以上の熱処理が必要である。例えばアルコール塩法は250eの熱処理で、イオン交換法が150eで、ハロゲン法は120e必要である。

電界変色フィルム

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絶縁ガラス用Cs 0.32 WO 3粒子

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