三氧化钨薄膜材料制备及其性能（一）

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カテゴリ: 钨业知识
2015年2月05日（木曜）18:48に公開
作者: cq
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目前制备三氧化钨薄膜的方法有：蒸发法、溅射法、溶胶凝胶法、电子束蒸发法、化学蒸气沉积法、阳极氧化法、电沉积法、脉冲准分子激光、沉积法、离子镀法等。由于很多方法技术复杂、工艺条件苛刻，因此其应用受到限制。目前使用较多的是蒸发法、磁控溅射法、溶胶凝胶法等，溅射法具有稳定、方便、快速、薄膜均匀等优点，蒸发法也具有快速、稳定、薄膜纯度高的优点，但都存在仪器庞大、昂贵的问题，所以很多小型实验室采用仪器简单、成本低、易大面积成膜的溶胶凝胶法。
 
（一）溅射法
 
溅射法是指荷能粒子轰击固体表面(靶)，使固体原子(或分子)从表面射出，并沉积到衬底或工件表面形成薄膜的方法，属于物理气相沉积的一种。溅射法又分为直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射、中频溅射与脉冲溅射、偏压溅射、离子束溅射等。其中磁控溅射技术因具有沉积速度较高、工作气体压力较低等独特优越性，成为应用最广泛的一种溅射沉积法。
 
用溅射法制备纳米薄膜材料有以下优点:1)可制备多种纳米金属, 包括高熔点和低熔点金属;2)能制备多组元的化合物纳米薄膜材料;3)制备参数易控制、粒径较均匀。
 
 
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