6インチのシリコンウエハ窒化ガリウム系エピタキシャルを達成するために、ケンブリッジCCSシステム

ドイツAIXTRON SEは本日、材料科学と冶金学科新施設でケンブリッジ大学に成功スプレーヘッド(CCS)MOCVD炉のマルチチップほぼ結合試運転の仕事の別のセットを完了した。

AIXTRONは言った、ケンブリッジ大学は、6×2インチのCCSシステム構成は6インチ(150 mm)のウエハーを扱うことができるのセット、6インチシリコンウエハー上にGaNのエピタキシャル成長、ケンブリッジ大学は、LEDや電子機器の開発と実践を推進していき。

AIXTRONゼネラルマネージャートニー·ピアース言う:“AIXTRONとケンブリッジは、長い時間協力関係を持っている、ケンブリッジ大学は、原子炉予約&購入当社から、今回CCS研究システムの別のセットの購入、これはまた、私たちは非常に誇りになります。ケンブリッジ大学の研究チームが成功した世界有数のシリコン窒化ガリウム生産のセットを開発してきました、私たちは、彼らの研究や開発作業のために新しいシステムを支援することを楽しみにしています。”

ケンブリッジ大学のGaN中心、窒化物半導体の生産能力を有しているだけでなく、同時に、電子顕微鏡、X線回折の、原子間力顕微鏡、フォトルミネッセンス(PL)とホール効果デバイスやその他の高度な特性評価設備を備えた数少ない世界1の研究センター。


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