近赤外吸収膜におけるセシウムタングステン青銅の使用

セシウムタングステン青銅は、新しい環境保護近赤外吸収膜の製造に使用することができる。では、セシウムタングステン青銅を機能材料として使用して近赤外吸収膜を作製する方法を知っていますか。

近赤外吸収膜におけるセシウムタングステン青銅の使用

詳細については、次のサイトを参照してください。

http://www.tungsten-oxide.com/japanese/index.html

近赤外吸収膜におけるセシウムタングステン青銅の使用

これまで、セシウムタングステン青銅ナノ粒子は、固体、水熱、水制御放出溶媒熱及び熱プラズマ合成法により合成されてきた。これらの方法の中で、固体合成方法は工業規模でナノ粒子サイズのセシウムタングステン青銅を生産するために広く用いられている。しかしながら、この方法は、H 2/N 2雰囲気下(例えば、約550°Cで1時間加熱)、N 2雰囲気下(例えば、約800°Cで1時間)、及び機械的研磨(例えば、6時間)を含む多くの複雑なマルチステップに関する。また、研磨工程中に発生する汚染も深刻な問題となっている。そのため、私たちは準備の過程でこれらの問題に注意しなければならない。

 

 

微信公众号

タングステン知識

タングステン知識

 

絶縁ガラス用Cs 0.32 WO 3粒子

絶縁ガラス用Cs 0.32 WO 3粒子