2023年一季度，章源钨业实现营收8.23亿元，同比下降5.76%；归母净利润3507.09万元，同比下降46.62%；扣非净利润万2742.24元，同比下降51.30%；经营活动产生的现金流量净额1.46亿元，同比增长19.65%；基本每股收益0.0379元，同比下降46.62%；报告期末，公司总资产48.25亿元，同比增长0.70%；归母所有者权益20.38亿元，同比增长1.81%。

2023年第一季度，厦钨新能实现营收35.86亿元，同比下降40.67%；归母净利润1.16亿元，同比下降46.17%；扣非净利润0.98亿元，同比下降33.63%；经营活动产生的现金流量净额6.77亿元，同比增长1520.77%；基本每股收益0.38元，同比下降55.29%；报告期末，公司总资产136.72亿元，同比下降11.11%；归母所有者权益83.12亿元，同比增长1.37%。

二硫化钼（MoS2）是一种典型的低维度过渡金属硫化物，是一种分散性良好的细颗粒黑色粉末，是一种层状结构材料，除了具有良好的润滑性能之外，还有优异的半导体特性和理想的电化学性能，因而有望进一步提高锂离子电池的综合性能。

为了解决W及W基合金在高温下抗氧化性差的问题，研究人员总结了自钝化钨合金及表面涂层保护技术。优化合金的制备工艺（HIPed合金的热处理等）可以有效减少或消除其内部的裂纹和孔洞、热应力和残余应力，从而降低其表面的粗糙度和孔隙率。此外，还可以加入一些有益元素（Ti、Zr、Y、Nb等）来提高W基合金的高温强度，减缓Cr阳离子的扩散，促进氧化膜的形成。

研究人员总结了不同W基材料涂层制备方法对涂层组成和氧化行为的影响。可以看出，硅化物涂层主要由一个厚的WSi₂层和一个薄的W₅Si₃层组成。由于扩散温度相对较低，HAPC涂层需要更长的时间。在1100℃下处理4~15小时后，涂层的厚度只有30~60 µm。然而，使用CVD技术，在1200℃下沉积0.5~1小时，涂层的厚度可以达到50~80 µm。相比之下，HDS技术的涂层制备效率非常高。通过在1500℃下沉积0.25~0.42小时，可以得到厚度为36~88 µm的涂层。

研究人员通过热浸镀硅法（HDS）在钨基材上制备Si-WSi₂涂层。HDS是在高温下，将固体渗源放入坩埚中，加热至完全熔化，并保持一定时间的温度。然后将加工好的样品慢慢放入坩埚中，通过基材和熔体之间的相互渗透在基材表面形成涂层。这种方法被认为是一种经济有效的涂层制备方法，它具有制备时间短、沉积温度高、涂层成分均匀、表面光滑、结构紧凑等特点。

WSi₂/β-SiC纳米复合涂层可通过两步化学气相沉积（CVD）工艺获得的。EPMA结果显示，碳化物涂层由WC层和W₂C层组成，相应的厚度分别为2和17µm。随后在1200℃下硅化30分钟，得到了厚度约为50µm的WSi₂层。

W基合金表面的抗氧化涂层涂层技术是材料表面氧化保护的重要措施，已被广泛应用于难熔金属的氧化保护。其中，卤化物活化包固法（HAPC）、化学气相沉积（CVD）技术、热浸硅化（HDS）技术因其优良的工艺条件，在W基材料的氧化保护方面赢得了更多研究者的青睐。

W基合金的氧化机制和失效机制表明氧化过程可以分为两个不同的阶段。氧化膜的形成速度和结构的稳定性是影响W-Cr合金的抗氧化性的关键因素。Si和Cr元素很容易被氧化，形成稳定的保护膜。因此，W-Si基合金和W-Cr基合金的氧化特性已经得到了广泛的研究。

研究人员制备了W-Cr-Y-Zr合金并对其氧化行为进行了研究。Elisa等通过HIP和热处理（HT）技术制备了W-10Cr-0.5Y和W-10Cr-0.5Y-0.5Zr（wt%）合金，其表面图像结果显示了热处理的W-10Cr-0.5Y和W-10Cr-0.5Y-0.5Zr（wt%）合金的形态，热处理温度和时间分别为1550℃和1.5h。