氧化钨薄膜的新制备方法

据专业人员介绍，氧化钨靶材在氩氧比为4:1的气氛及20mtorr下能制备出具有高变色效率的氧化钨薄膜，薄膜的沉积速度为9.6nm/min。上述工作在薄膜磁控溅射过程中虽然用到少量的氧气，但是要使微量气体均匀分布在腔室中，需要镀膜设备额外增加一些新的部件来确保气体流入的均匀性，不过这样会增加投资成本。因此，为了克服这个问题，本文将介绍氧化钨薄膜的新制备方法。

—种纳米氧化钨薄膜的新合成方法，包括前驱液制备、基底镀膜、高温煅烧。

前驱液配制：将适量的水溶性多聚钨酸盐溶解于去离子水中，再加入一定量的分散剂和改性剂，在磁力搅拌器持续搅拌后恒温静置，得到前驱液。分散剂的作用是构成大量的网状交织结构，在干燥、高温成晶过程中不易产生裂缝；改性剂的作用提高前驱液的稳定性，另外在高温条件薄膜生长的过程中，能防止三氧化钨颗粒团聚，导致薄膜脱落。

镀膜方法：采用浸渍提拉法或旋涂法在待涂敷的基底上镀膜，并在一定温度条件下干化；待镀膜的基底应先进行清洗等预处理。基底材质为铝、不锈钢、玻璃、石墨、硅片 的其中一种。

焙烧方法：基底镀膜干燥后，放置于可程序控温的马弗炉高温焙烧，升温速率5°C /min，焙烧温度350-600°C，热处理2-5h，就可得到三氧化钨薄膜。

该生产方法的优势：（1）生产成本较低，工艺流程简单；（2）产品稳定性好，光催化活性和光电转化性能优越。

• < 上页
• 下页 >