厦钨新能2023年第一季度营收近36亿

厦钨新能图片

2023年第一季度,厦钨新能实现营收35.86亿元,同比下降40.67%;归母净利润1.16亿元,同比下降46.17%;扣非净利润0.98亿元,同比下降33.63%;经营活动产生的现金流量净额6.77亿元,同比增长1520.77%;基本每股收益0.38元,同比下降55.29%;报告期末,公司总资产136.72亿元,同比下降11.11%;归母所有者权益83.12亿元,同比增长1.37%。

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石墨烯对二硫化钼电化学性能的改善

二硫化鉬圖片

二硫化钼(MoS2)是一种典型的低维度过渡金属硫化物,是一种分散性良好的细颗粒黑色粉末,是一种层状结构材料,除了具有良好的润滑性能之外,还有优异的半导体特性和理想的电化学性能,因而有望进一步提高锂离子电池的综合性能。

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涂层制备方法对W基材料氧化行为的影响

W及其合金表面的硅化物涂层的制备过程和氧化特性概要图片

研究人员总结了不同W基材料涂层制备方法对涂层组成和氧化行为的影响。可以看出,硅化物涂层主要由一个厚的WSi2层和一个薄的W5Si3层组成。由于扩散温度相对较低,HAPC涂层需要更长的时间。在1100℃下处理4~15小时后,涂层的厚度只有30~60 µm。然而,使用CVD技术,在1200℃下沉积0.5~1小时,涂层的厚度可以达到50~80 µm。相比之下,HDS技术的涂层制备效率非常高。通过在1500℃下沉积0.25~0.42小时,可以得到厚度为36~88 µm的涂层。

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自钝化钨合金及表面涂层保护技术

WSi2涂层在W和W基合金上的氧化失效机制示意图片

为了解决W及W基合金在高温下抗氧化性差的问题,研究人员总结了自钝化钨合金及表面涂层保护技术。优化合金的制备工艺(HIPed合金的热处理等)可以有效减少或消除其内部的裂纹和孔洞、热应力和残余应力,从而降低其表面的粗糙度和孔隙率。此外,还可以加入一些有益元素(Ti、Zr、Y、Nb等)来提高W基合金的高温强度,减缓Cr阳离子的扩散,促进氧化膜的形成。

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使用热浸镀硅法制备Si-WSi2涂层

纯W和W基合金在1000温度下氧化15小时后的mS值与曝光时间的关系图片

研究人员通过热浸镀硅法(HDS)在钨基材上制备Si-WSi2涂层。HDS是在高温下,将固体渗源放入坩埚中,加热至完全熔化,并保持一定时间的温度。然后将加工好的样品慢慢放入坩埚中,通过基材和熔体之间的相互渗透在基材表面形成涂层。这种方法被认为是一种经济有效的涂层制备方法,它具有制备时间短、沉积温度高、涂层成分均匀、表面光滑、结构紧凑等特点。

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