由于等离激元纳米结构在纳米光子学、生物化学传感和医学诊断等领域有重要性，等离激元纳米结构的制造技术成为近期人们的研究热点。通过控制等离激元纳米结构的尺寸、形状和成分，人们可以在较大的范围内调整光学特性和电学特性。随着纳米科学和纳米技术的出现，等离激元纳米结构迅猛发展，该结构中自由电子对入射光的相干振荡会引起局部表面等离激元共振（LSPR）；这种现象伴随着光学近场放大，而且已经在表面增强拉曼散射（SERS）、生物检测以及能量存储和转换等方面有所应用。

 

近日，中国和日本的研究员通过简单的H-溢出方法制备了氢掺杂MoO₃和WO₃，即氢钼青铜和氢钨青铜，其表现出在可见光区域的强局部表面等离激元共振。另外，研究员们通过改变化学计量组成发现，在很宽的范围内都可以观察到可调的等离激元共振，而且，这种现象与温度的降低、金属的种类、支撑氢还原反应的金属氧化物性质和尺寸以及合成过程中的氧化处理直接相关。这以研究结果为氢掺杂的金属氧化物（如WO₃等）半导体实现等离激元共振提供了直接证据，并可能允许低价和地球丰富元素大规模应用。

 

三氧化钨（WO₃）是具有特殊N型结构的过渡金属半导体，黄色或亮绿色晶体粉末，常温下性质稳定，大量用于金属钨粉和碳化钨粉的制备；由于其特殊性质，它在工业催化剂、光催化剂、传感器、防火面料、防辐射等方面都有广泛应用。