氧化钨薄膜电极的光学特性
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2016年6月14日 星期二 17:44
- 作者:Cristina
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下图为不同热处理温度下WO3薄膜的紫外-可见吸收光谱,其中前驱体溶胶pH=2.8,PEG含量为50%,热处理时间均为3h。从图中可以看出,所有样品的光吸收范围没有明显区别,均在470nm以下。随着热处理温度的上升,薄膜在300~450nm波长范围内的光吸收率有所增加。这主要是因为样品的结晶度随温度升高而升高,使得其光吸收效率提高。
下图为不同柠檬酸添加量条件下的样品紫外-可见吸收光谱。与上图相比,所有样品的光吸收范围也均在470nm以下,与WO3理论禁带宽度2.7eV相吻合。随着柠檬酸添加量的增加,薄膜在300~450nm波长范围内的光吸收率有所增加,主要是薄膜表面颗粒尺寸和粗糙度增大的原因。大颗粒纳米晶粒的散射效应增加了光子在纳米晶粒薄膜中的传播路程,提高了薄膜吸收光子的概率,有利于提高光能吸收效率。
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