高纯氧化钨是重要的工业原料，为得到高纯氧化钨研究其中含有的杂质元素是必不可少的一步骤，ICP-AES法是一种较为普遍的方法。高纯氧化钨其中的13个金属元素用氢氧化镧溶液共沉淀分离富集后，再用ICP-AES法进行测定。以下为实验步骤。

氧化钨材料是一种新型功能材料，可用于化学传感器、催化材料、电化学电极、电致变色材料、高温超导材料、太阳能吸收材料、吸波隐形材料等。

高纯氧化钨是重要的工业原料。国家现行标准分析方法多为先以有机溶剂革取分离，然后用分光光度法或原子吸收光谱法测定。由于不同元素须用不同方法，故预处理冗长繁杂。经典发射光谱法能同时测定多个元素，但精密度差，线性范围窄。钨的谱线极为丰富，对许多共存痕量元素都会产生严重的谱线重叠干扰。

电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）是八十年代迅速发展起来的一门新技术，高纯氧化钨中微量杂质元素用ICP-MS法测定能够较准确的分析出其中的元素。它是采用电感耦合等离子体与高分辨率、灵敏的四极质谱探测器联用。ICP-MS与ICP-AES（电感耦合等离子体原子发射光谱法）在检测方式上是不同的，前者检测的是离子，后者检测的是光子。