掺杂WO3薄膜

掺杂WO3薄膜图片

掺杂WO3薄膜可以采用电子束蒸镀法制备得到。其中,电子束蒸镀法是蒸发镀膜法中的一种,而后者又属于物理气相沉积法中的一种。有专家以WO3和CNT的混合粉末为原料,采用电子束蒸镀法在Al2O3基板上制得NWCNT掺杂WO3薄膜。

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Ti掺杂WO3

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Ti掺杂WO3可以采用共溅射法制备得到。有专家就是采用的该法制备了Ti掺杂三氧化钨薄膜。他们发现改变反应条件,如,增加氧气室的压力,实验结果如下:

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Co掺杂氧化钨

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Co掺杂氧化钨可以通过水热法合成,具有粒径均匀、纯度较高、结晶性良好等优点。有专家分别在Na2WO4溶液和Co(NO3)2溶液中加入CTAB(十六烷基三甲基溴化铵),得到钨酸沉淀和钴酸沉淀,再将沉淀物转移至反应釜中水热反应12h,得到掺Co纳米WO3。

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Ce掺杂氧化钨

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Ce掺杂氧化钨的制备可以采用固相烧结法实现,具有工艺过程简单、成本低的优点。那么,什么是固相烧结法?如何利用固相烧结法合成氧化钨或者掺杂氧化钨?

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Pt掺杂氧化钨

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Pt掺杂氧化钨可以采用溶胶-凝胶法合成,具有工艺简单,设备成本低,反应过程可控,且便于规模化生产薄膜材料等优点。有专家采用溶胶-凝胶法合成掺Pt的WO3薄膜,过程如下:

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