溅射钨靶材简介

钨溅射靶材由钨粉制成，常用的溅射钨靶材的类型有平面靶型、电弧靶型和旋转靶型。

因为靶材的质量会直接影响薄膜的性能，所以溅射钨靶材需满足以下要求：

纯度高；靶材的纯度越高，溅射喷膜的效果-膜的电学及光学性能会越好，耐腐性也越强。一般，半导体器件和显示器等对靶材的纯度要求较为严格，例如，用于磁性薄膜的钨靶材的纯度要求一般在99.9％以上。

致密度高；

晶粒尺寸小；

杂质含量低；靶材作为溅射中的阴极，主要污染源来自气孔中的的氧气、水和固体中的杂质等。杂质含量越低，纯度就越高。

成分与组织结构均匀。

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