溅射钨靶材原理

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2015年5月29日星期五 14:04; 点击数：1630

钨溅射靶材由钨粉制成，常用的溅射钨靶材的类型有平面靶型、电弧靶型和旋转靶型。

溅射钨靶材原理：
在高真空室中，将一个正交磁场和电场加到阳极与阴极（被溅射的靶极）之间，充入所需的惰性气体（氩气等），然后，永久磁铁会在靶材料表面形成磁场并与高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，氩气电离（离子和电子），这些从靶极射出的电子将受到磁场的作用，在阴极附近会形成高密度的等离子体，在洛伦磁力作用下，Ar离子加速飞向靶面并以很快的速度轰击靶面，然后，从靶上溅射出来的原子将以较大的动能飞向基片并淀积成膜。

纯钨产品生产商、供应商：中钨在线科技有限公司
产品详情查阅：http://www.tungsten.com.cn
订购电话：0592-5129696 传真：0592-5129797
电子邮件：sales@chinatungsten.com
钨钼文库：http://i.chinatungsten.com
钨新闻、价格手机网站，3G版：http://3g.chinatungsten.com
钼新闻、钼价格：http://news.molybdenum.com.cn
关注微信公众号“中钨在线”，了解每日最新钨钼价格