钨靶材在X-射线管的应用

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2015年5月28日星期四 16:58; 点击数：1596

钨靶也叫钨溅射靶材，其熔点高、弹性好、膨胀系数低、电阻率和热稳定性良好，广泛应用于电子产业、化工设备（X-射线管、薄膜材料、半导体集成电路）、医疗设备、熔炼设备、稀土冶炼、航空等领域。
X-射线管被用来撞击钨靶，在真空的X-射线管中，高能量的电子被引导。电子撞击会产生非常短波长的X-射线，这些射线会通过真空管，可用于医疗诊断和工程焊缝和铸件等。钨具有非常高的熔点，但它仍不会熔化，其中束打击，靶频繁旋转以得到新鲜靶表面。钨靶是由一个相当薄钢板焊接或钎焊到一水冷铜背衬而来。小于1％的电能输送到X -射线管作为X射线，其他99 ％为余热。

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