运用过渡金属掺杂优化WO3薄膜
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年5月22日 星期五 17:55
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三氧化钨薄膜与过渡金属有能级高低差异的影响,使得两种物质接触形成异制结。同时因掺杂而形成的晶格缺陷能补集电子形成小极子,两种机制共同作用导致载流子迁移率发生改变,从而提高WO3薄膜的性能,采用金属掺杂优化WO3薄膜的变色性能应用极为广泛,常用于掺杂的过渡金属有Cr【24,25】,T1【26,27】,MO【28】等。除了传统掺杂物质外,也能使用其他新型物质来掺杂优化WO3薄膜,例如利用等离子功能化的多层碳纳米管修饰WO3薄膜,使其具有更大的表面积,为气体与WO3的反应提供了更大的有效接触面积。随着WO3薄膜优化研究的深入展开,有学者认为可以才有稀有金属以及非金属原始来提高WO3薄膜的性能,同时在掺杂过程中可以采用多种物质共同掺杂,总和掺杂物质的优化来进一步改善WO3薄膜。
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