涂层硬质合金的制备之物理气相沉积涂层法

利用真空中蒸发、溅射、等离子体离子化等物理方法使金属(铊、锆)由熔融体（通过蒸发）或者固体（通过喷镀）转人气相并与气态非金属组元发生化学反应，所生成的化合物沉积在被加热到500℃左右的硬质合金基体上的过程称为物理气相沉积涂层。物理气相沉枳涂层法可分为三大类：蒸镀法、溅射法和离子镀法。日則皿用最广泛的是真空电弧蒸镀法、电子束蒸镀法和高速磁控溅射法。物理气相沉积与化学气相沉积相比具有如下优点。

(1)由于物理气相沉积温度一般为500℃左右，在此温度下涂层与基体不产生扩散层，因而使基体强度不变；
(2)涂层具有细微型结构，在涂层中产生压应力，涂层韧性较高，抗裂纹扩展能力强；
(3)涂层表面光滑，能有效阻止横向裂纹的扩展。

因此，物理气相沉积涂层特别适用于切削刀片的涂层。为了保证涂层与基体牢固黏结，基体表面的光洁度是十分重要的，如果基体表面有缺陷存在，则会造成涂层脱落。因此，涂层前基蚀嘉而需经过超声波、离子侵蚀等方法进行处理。

离子镀法

离子镀(IP)法是一种等离子体激发物理气相沉积方法，即采用离子和具有能量的中性原子轰击溅射净化后的基体（沉积前）并在沉积过程中控制涂层成核和生长过程。

真空电弧蒸镀法

真空电弧蒸镀法是使金属、合金或化合物在真空中电弧蒸发、离子化、溅射并沉积在基体上的一种涂层方法。




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