一种表面修饰铕的三氧化钨光电极及制备方法
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- 分类:钨专利技术
- 发布于 2014年10月24日 星期五 09:08
- 作者:Sherry
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本发明公开了一种表面修饰铕的三氧化钨光电极及制备方法。本发明的特点是以电沉积的方法得到无定形的氧化钨薄膜为基体,通过滴加法将铕均匀滴加于氧化钨薄膜表面,然后在一定温度下煅烧,得到一种铕表面修饰的三氧化钨光电极。本发明的光电性能显著提高,而且实验设备简单,操作简便,条件温和,且具有环境友好等优点。
一种表面修饰铕的三氧化钨光电极,其特征在于, 1)所述的光电极中铕与钨的原子质量比为1:99-30:70 ; 2)所述的光电极的组成颗粒变小; 3)所述的光电极的发光强度随铕修饰量增加而加强; 4)所述的光电极的带隙随铕修饰量增加而变宽; 5)所述的光电极在0.8V电压下的光电流比纯三氧化钨光电极最大增加12倍。
一种表面修饰铕的三氧化钨光电极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤: 1)无定形氧化钨薄膜的制备:在Na2WO4溶液中加入H2O2,得到含W20n2_的澄清电解液;然后进行电沉积,得到无定形氧化钨薄膜; 2)滴加法表面修饰铕:将硝酸铕溶液逐滴滴加到步骤I)得到的无定形氧化钨薄膜表面,晾干,得到表面修饰铕的氧化钨薄膜; 3)煅烧:将步骤2)得到的表面修饰铕的氧化钨薄膜在450°C下高温煅烧3h,冷却至室温后取出,得到表面修饰铕的三氧化钨光电极。
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