CVD钨管工艺原理

反应源气体：WF₆  
还原气体：H₂     
沉积基体：紫铜管
气压条件：常压下     

CVD（化学气相沉积）钨管工艺原理：
首先，在恒温条件下，加热WF₆并待其气化后，将其通入气体混合室中使其与氢气充分混合，然后再将其通入反应室。

通过加热紫铜管使温度上升至所需的沉积温度。

WF₆和H₂在紫铜管表面发生化学反应，WF₆被还原为W原子。这些W原子会在紫铜管表面聚集形核并长大，最终形成钨沉积层。

WF₆和H₂反应的化学反应式如下：

WF₆ + H₂ → W + 6HF (125Kj/mol) 

用气体吸收装置吸收被排出反应室的未发生反应的WF₆、H₂的剩余气体和生成的HF。


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