三氧化钨陶瓷的制备工艺流程

三氧化钨（WO3）是一种极为重要的高技术材料，这种材料具有非线性、介电常数高、电致变色、气体探测、化学催化等特征。利用WO3的这些特征，可将其纳米粉末烧制成压敏电阻陶瓷、陶瓷电容器、光（电）变色陶瓷薄膜、气敏陶瓷、光催化降解陶瓷薄膜、电池电极陶瓷材料等。

因此，三氧化钨陶瓷的制备也随之变得重要起来。它的制备工艺流程大体上分为四步：配料、混料、成型、烧结。

配料

根据具体要求，选定所的原材料，在所考虑的精度内，按事先设计的配比，分别称取各种原料。

混料

将称取好的各种原料通过研磨、球磨或其他方式使之均匀混合。对陶瓷来说，一般使原料的粒度越细越好，混合的越均匀越好。球磨是比较有效的常用混料方法，但时间较长，环节较多，易于掺杂。相比之下，研磨的效果不如球磨，但其时间较短，比较简单。

成型

把混合后的物料置于选定的模具中，采用不同的方法对其施加预定的压力，以得到所欲样品的几何形状。一般在成型之前要向物料中添加适量的粘合剂，增加物理的可塑性。

烧结

烧结是整个功能功能陶瓷制备工艺中最为关键的一个过程。它在很大程度上直接决定着所得样品质量的好坏，显微结构的均匀性、组分的空间分别、晶粒的尺寸和分别范围。烧结的具体过程是：升温，然后保温，最后降温。而陶瓷的常用烧结工艺有：常压烧结法、气氛常压烧结法、反应烧结法和热压烧结法等。

综上所述，三氧化钨陶瓷的制备工艺流程并不简单，工序要求也相当严格。

• < 上页
• 下页 >