什么是三氧化钨靶材？

三氧化钨（WO3）靶材是由三氧化钨制造的一种陶瓷靶材。三氧化钨是一种n型宽禁带半导体材料，具有良好的可见光响应、优良的抗腐蚀性、较好的光生电子传输性能等独特性能。

靶材，也可以称为镀膜靶材，是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。靶材根据材质主要分为三类：金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材。

三氧化钨陶瓷靶材的生产工艺与传统陶瓷的生产工艺大致相同，常见是以氧化物为主要成分的烧结体材料。需要注意的是，原料好坏会影响三氧化钨靶材的最终性能，中钨在线科技有限公司一直致力于专业提供高质量三氧化钨靶材原料，如果您有任何相关的问题或购买意向，欢迎访问h5.chinatungsten.com，或者致信sales@chinatungsten.com，随时联系我们。

随着航空、航天、邮电、铁路、汽车和家用电器等领域的集成电路快速发展，各种电子元器件的驱动电压及耐压值逐渐下降，低压微电子领域的压敏材料传统的ZnO陶瓷压敏因其电压较高和介电常数较低而限制了其在低压微电子领域的应用。1994年，有国外学者首先报导了WO3陶瓷的非线性（压敏行为），并指出由于WO3陶瓷具有非常低的压敏电压，可作为低压微电子领域的压敏材料使用。

除此之外，WO3靶材也是生产WO3薄膜的中间产品，有关WO3薄膜的生产介绍在其他文章之中有详细介绍，欢迎继续阅读。

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