电致变色薄膜用单斜相三氧化钨纳米片

单斜相三氧化钨纳米片可以用于制备电致变色薄膜。所得WO3薄膜的纳米片形貌结构良好,裂纹少,即薄膜的光电性能提高了,因为界面上缺陷的减少,降低了电子与空穴复合的几率,使得电子与空穴复合几率降低,减少了电子在薄膜中传输的阻抗。以下介绍一种设备简单、操作简单可行,能满足工业化生产的三氧化钨电致变色薄膜的制备方法。

电致变色薄膜用单斜相三氧化钨纳米片图片

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一种三氧化钨电致变色薄膜的制备方法

第一步:称取0.7mmol Li2WO4·2H20溶于30mL去离子水中,室温搅拌下逐滴加入6mL 3MHCl溶液,再加入磷钨酸,加入磷钨酸的摩尔量是钨酸锂的35%,搅拌至白色沉淀不再增加;

第二步:加入1.4mmol (NH4)2C2O4作为结构导向剂,补加去离子水至溶液总体积为70mL,继续搅拌1h;

第三步:将预先清洗好的FTO导电玻璃倾斜放入反应釜内衬中。将第二步所得溶液移入反应釜中,密封后放入鼓风干燥箱中,于200℃下水热反应5h,自然冷却至室温。取出导电玻璃,用去离子水清洗,于烘箱60℃下干燥,在550℃煅烧1h,制得三氧化钨薄膜。

 

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