镀铝用钨加热子——真空条件
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2016年7月29日 星期五 11:17
- 作者:xuejiao
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真空蒸发用钨加热子就是在真空中把蒸发物质加热到相当高的温度,使其达到汽化状态,这时蒸发物质以直线轨迹飞向衬底,并在衬底表面凝积成一层薄膜,这个过程就叫做蒸发淀积。为了确保蒸发物质能有效地沉积在荧光屏上,必须使蒸发物质的平均自由程大于蒸发源到衬底的距离。因此蒸发的过程必须在一定的蒸气压下进行。铝具有有延展性,常制成棒状、片状、箔状、粉状、带状和丝状。在潮湿空气中能形成一层防止金属腐蚀的氧化膜。
首先打开镀膜机,将真空室的真空抽到高真空达5×10-5托以上,对蒸发物质进行预熔,然后再打开充氩。蒸发距离为6.5厘米,被蒸镀物质的面积直径为5.5厘米。可以在真空室内电极上面加上一个钟罩和支撑板。这种小面积蒸发镀膜的方法,每次只能镀一个荧光屏。这种方法镀出来的铝的质量比较好,但是效率不高,一次只能镀一个荧光屏,而且镀膜的面积比较小,而且还不均匀。是由于蒸发镀膜距离较低,荧光屏不能承受太高的温度,所以只能快速蒸发。
直接在2×10-1托的真空条件下蒸发镀黑铝。蒸发材料为5条铝,每条长0.8厘米,钨绞丝加热子总长8.5厘米,直径0.5毫米,当蒸发镀膜室的真空达到2×10-1E的时候,先将铝丝进行预熔,然后再向真空室放入空气,将真空度调到2×10-1E。在这样的真空条件下进行蒸发镀膜。
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