纳米复合钨-4.5%氧化钍电极材料的制备
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2013年9月12日 星期四 10:50
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工艺要点
高掺杂纳米复合钨氧化钍电极材料的工艺关键是制取混合均匀的掺杂钨粉。钨氧化钍的加入量、粒度、加入方式等因素直接影响到掺杂物在钨粉中的最终含量乃至最终成品材料的性能。
生产高掺杂纳米复合钨氧化钍电极丝材的工艺与生产纳米复合钨-2%氧化钍电极丝材的工艺略有不同。
掺杂纳米复合钨氧化钍电极材料的工艺要点是:
(1)混粉是关键,即能否使高掺杂纳米氧化物在钨粉中弥散分布是决定一切的因素,因此混粉工艺要仔细控制,采用复合混粉工艺较为合理,如采用超声波+高能球磨法较为合理。
(2)两种超细粉在制作坯料时会出现松装密度低、易粘模具、压坯密度小、强度低等缺点,导致工艺成品率很低。因此,模压压力要高于传统工艺的模压压力,保压时间要比传统工艺长。
(3)预烧结、垂熔、旋锻等工序的加工温度要略高于纳米复合钨-2%氧化钍电极。
氧化钍含量的确定:对纳米复合钨氧化钍电极材料而言。钨为基体材料,氧化钍为掺杂物。
混粉工艺
颗粒在基体中的分布均匀性是影响颗粒增强/改性复合材料力学性能及其他功能的重要因素,对纳米复合材料尤为重要。颗粒分布均匀程度与颗粒和基体自身特性包括润湿性、密度、粒度、颗粒表面特征、材料制备方法、颗粒在基体中的含量等因素密切相关,采用粉末冶金法制备颗粒增强/改性复合材料时,颗粒分布均匀性很大程度上取决于混粉方法和工艺参数。本文采用超声波振荡法+球磨法混粉法。先超声波分散,烘干到潮湿状态,再经球磨机混粉后,烘干、研磨。
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