真空电镀用钨加热子的重要工序——蒸发镀膜

化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后，1817年，Fraunhofe在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜，1835年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜，它们是最先在世界上制备的光学薄膜。后来，人们在化学溶液和蒸汽中镀制各种光学薄膜。50年代，除大块窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。 真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今工业能够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。1935年，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先应用是1945年以后镀制在眼镜片上。真空电镀用钨加热子在蒸发镀膜的过程中需要注意以下几点。

1.在发热钨丝上缠上铝片。如上次电镀中熔铝呈球状包覆于钨丝上则不可再用，需拆出换过钨丝。
2.将上好笼架的啤件（通过小车）推入真空室内，保持电极紧密接触，嵌入离合器定位牢固应能旋转。
3.顺序用机械泵，罗茨泵及扩散泵抽气，当真空度指针达到5×10-4TORR时可开始蒸镀操作。
4.蒸镀过程：钨丝升温到650℃，铝熔融在钨丝上，继续升高到近1000℃，熔化铝被蒸发逸出铝原子以直线运动凝结在它相碰的表面上，真空室内被镀制品不断在旋转 （跟笼架）使被镀表面镀上均匀膜层。
5.平均镀膜生产周期约30分钟左右。
6.设备的详细操作使用参见附页数据。