制备含不同组分的单晶并进行了物理研究。Shanks的研究结果表明，用熔盐电解法生长钠钨青铜，反应物中三氧化钨的摩尔百分比（mol/O）在0-50之间得到了立方型单晶。本实验用与Shanks同样的方法生长钾钨青铜，反应物中三氧化钨的mol/O为45时得到了四方（I）型单晶。当要得到四方（I）型钾钠钨青铜时，反应物中三氧化钨的mol/O应保持在30-50之间。实验中发现，mol/O三氧化钨太大时生成了四方（II）型单晶；太小则生成了立方单晶。这说明组分对四方（I）型单晶生成的影响不是很明显。对于四方（I）型钾钠钨青铜KxNayWO3，其x值约为0.40，y值约为x值的0.7-0.5倍。这表明尽管反应物的组分可以在很大的范围内变化，但钾在四方（I）型钾钠钨青铜单晶中的含量却比较稳定。

 

表1给出经过计算的本实验与K0.₅₇WO₃，Na_0.28WO₃的ASTM卡片的X射线衍射数据的比较，Na_0.28WO₃的晶胞参数a0=12.097A，c0=3.748A，它比K_0.57WO₃的a0=12.317Ac，0=3.841A要小。考虑到钠离子的离子半径为0.98A，它比钾离子的离子半径1.33A要小得多。所以在适当条件下，钠离子插入四方（I）型钾钨青铜中是比较容易。

 

综合上面两点可以认为钾钠钨青铜是钠离子插入到四方（I）型钾钨青铜的结果。