仲钨酸铵制备纳米三氧化钨薄膜 2/2

具体步骤如下：
1.配制前驱液
将适量的APT溶解于二次去离子水中，再加入一定量的分散剂和改性剂，磁力搅拌器持续搅拌3-5小时，再恒温70-90℃水浴环境中静置，得到前驱液；
2.镀膜
采用浸渍提拉法或旋涂法在待涂敷的基底上镀膜，并在一定温度条 件下干化。待镀膜的基底应先进行清洗等预处理；
3.焙烧
将基底镀膜干燥后，放置于可程序控温的马弗炉高温焙烧，焙烧温度350-600℃，热处理2-5小时，最终得到纳米三氧化钨薄膜。

其明显优势在于：
1.采用水溶性多聚钨酸盐为前驱体，通过加入分散剂和改性剂，最终的三氧化钨薄膜与基底牢固性很好，不会出现脱落现象；
2.前驱液保存3 个月以上，不会产生凝聚沉淀现象，仍然保持稳定状态，可以重复利用，不仅操作简便，也大大降低了制备成本；
3.往前驱液加入的分散剂和改性剂完全是有机物，高温容易氧化去除，没有引入除W以外的金属元素，特别是碱金属元素（Na+，K+)，不影响W0₃的光催化活性和光电转化性能；
4.制备出的三氧化钨薄膜具有良好的光电性能：在60mW/cm₂光强的汞灯条件下，1.5V的偏压下达3. 9mA/ cm₂的电流密度，光电性能是比以钨粉溶于双氧水工艺制备W0₃高2-3倍。