化学气相沉积法制备钨管性能研究概述

钨管的制备可以采用CVD（化学气相沉积法），以WF₆、H₂为原料气体。

CVD技术是制备纯钨制品的重要方法之一。在1970年末，国外就已经有采用此技术制备高纯度及高密度钨制品的相关报告。近年来，中国也渐渐在开展CVD技术制备钨组织、性能、结构及其涂层工艺等方面的研究。

不同的沉积温度（700℃，600℃，500℃）所制得的钨管的密度、纯度、残余应力、显微硬度和钨管强度各不相同。

用CVD制备的钨管的性能：

高纯度：＞99.7％；
高密度：＞19g/cm³；

抗拉强度范围：300-500Pa，与常规方法制备钨棒退火态抗拉强度相当；

沿钨管半径及圆周方向存在较大的残余应力；

采用CVD制得的钨管具有纯度高和致密度高的特点；

随着钨管半径（4-21mm）和沉积温度的不同，显微硬度的值的范围在500-800HV之间。


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