热处理温度对三氧化钨纳米薄膜的影响

经实验发现用磁控溅射法制备的三氧化钨（WO₃）纳米薄膜经过两步热处理制备出来的WO₃纳米薄膜的性能更加稳定。所以热处理的温度对制备WO₃纳米薄膜有着重要的影响。

在基片上溅射的薄膜起初是无定型结构的，对任何气体都没有敏感性，所以需要对薄膜进行热处理，热处理过后才薄膜才具有多晶结构，且稳定性得到改善。经实验发现当热处理温度高于300℃时，产生尺寸为20~70nm的WO₃纳米晶体薄膜，再经过600℃热处理得到了性能良好的纳米薄膜。在热处理高于300℃时，平均粒度和裂缝尺寸都有所增加，使得灵敏度下降。但是经过两步的热处理可以避免发生该现象。且经过实验发现第二步热处理在600℃条件下进行处理没有发现薄膜粒径变大或者裂纹的出现。由此可发现运用两步热处理方法制得薄膜比在高温下制得薄膜性能要更好。

 

 

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