溅射气体对三氧化钨纳米薄膜的影响

通过反应磁空溅射法制备的三氧化钨纳米薄膜,它的平均粒度径均小于100nm。三氧化钨（WO₃）纳米薄膜晶粒的大小与磁射条件和处理温度相关。经过研究者的实验发现在溅射WO₃纳米薄膜时，溅射气体量和比例对提高气敏特性起着重要的影响。

通过XPS分析可知，虽然溅射混合气体（O₂/Ar）的比例不同，但是W4f_7/2和Ols的结合能不变，分别是35.5eV和530.6eV。并且WO3纳米薄膜没有发生化学计量比的变化，但是随着O₂分压的不同，WO3纳米薄膜微结构将会有很大的变化，这种现象可以用团聚的减少来解释，即当O₂分压增加时，晶体粒径变小。但如果O₂分压大于50%时，则会导致孔隙率的降低，从而降低了原件的灵敏度，这说明最佳溅射混合比例为1：1。所以当溅射混合气体（O₂/Ar）比例为1:1时采用直流反应磁控溅射法制备WO₃纳米薄膜的气敏度最好。

 

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