蒸发法制备纳米三氧化钨薄膜

纳米三氧化钨薄膜在现代科技中已经被广泛的应用，对于它的相关研究也越来越多，它的制备方法也有很多。但是薄膜的性质与制备方法及工艺条件密切相关，用不同制备方法制备的WO3薄膜在尺寸和晶型等方面有所不同，常见的方法如下。蒸发法、溅射法 、化学气相沉积法、电沉积和溶胶-凝胶法等等。利用物质在高温下的蒸发现象，制备各种薄膜材料。蒸发法具有一些明显的优点，如较高的沉积速度、相对较高的真空度，以及由此导致的较高的薄膜纯度等。蒸发法包括蒸发冷法、电子束蒸镀法、电弧蒸发法、激光蒸发法、空心阴极蒸发法、热蒸发法等，其中热蒸发法是使用比较多的方法之一。 用蒸发法制备的薄膜纯度高、颗粒分散性好。通过改变、控制气氛压力和温度，可制得颗粒尺寸不同的纳米薄膜，适合合成熔点低、成分单一物质的薄膜或颗粒。但这种制备方法一般都需要高温和真空条件，制备工艺复杂而且设备昂贵，不适宜制备大面积薄膜。

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