射频等离子球化法制备超细球形钨粉

近年来，随着科学技术的发展，对原料钨粉不断提出新的特殊要求，球形钨粉由于其优良的特性广泛的引用于多孔钨材料的制备、热喷涂以及注射成形等粉末冶金工艺中。用球形钨粉制备的多孔钨具有更均匀的孔隙，目前正逐渐取代常规钨粉，用于制作多孔钨部件，如大功率脉冲微波管的阴极、电子管的钡钨阴等。

目前国内外制备球形钨粉主要是采取射频等离子球化法，此法制备的钨粉球形度高，但由于钨粉团聚，导致球化后颗粒长大，难以制得粒度小于10μm的球形钨粉。因此，如何获得粒径分布均匀球形钨粉日益受到了科技工作者的重视。

为了能够制备出球形度高，表面光滑，分散性好，粒度均匀的球形钨粉，有技术人员对射频等离子球化法进行升级改进，其过程包括：

1.气流分散与分级

将原料粉末送入气流磨中研磨，得到分散性好、粒度分布均匀的粉末。气流磨的分选轮转速为2500~7000转/分钟，研磨腔压力为0.1 MPa ~1MPa，送粉速率0.1~20kg/小时，各参数依原始粉末而定；

2.射频等离子球化

将步骤1中收到的粉末通过射频等离子球化装置球化，其主要工艺参数为：功率50~100KW，氩气工作气流量20~60slpm，氩气保护气流量50~100slpm，系统负压800~1500mm水柱，送粉气流量2~10slpm，送粉速率为10~50g/min。

改进后的流程利用气流冲击分散与射频等离子体球化相结合，解决超细钨粉易团聚使得球化后粉末长大的问题，制得了粒度10μm以下，球化率100%，表面光滑，粒度分布均匀，分散性好的超细球形钨粉。