氧化钨材料按维度可分为零维纳米球体、一维纳米纤维和纳米管、二维纳米片和三维互连结构。而不同维度的氧化钨材料在其性能上也有着不同的差异。
氧化钨零维结构具有大的比表面积,可以与有机污染物有更多的接触面积,从而对其有很高的降解效率;一维纳米纤维和纳米管扩散距离短,并且具有光散射特性,可以减少光生电子和空穴的复合;二维纳米片不仅具有大的比表面积,而且具有 光滑的表面和高附着力,在光催化时能够与被催化的物质良好接触,提高光催化效率;三维互连结构特殊的结构能够提供一个有效的扩散通道,从而表现出较高的载流子迁移率,促进光生电子和空穴的有效分离。
氧化钨最常见的一个应用是用作光催化剂。它在光解水、光催化析氢和降解污染物等方面具有广泛的应用前景。但在实际中氧化钨的一些缺点却限制了它的应用。氧化钨带隙在 3.2 eV左右,属于宽带隙半导体,只对紫外光有吸收,对太阳光的利用率比较低。此外,由光催化机理可知,氧化钨受光照激发得到的部分光生电子和空穴容易发生重新复合,降低了光催化的效率。因此应对氧化钨进行一些改性修饰,其目的有两个:一是提高氧化钨对太阳光的利用率;二是避免光生电子和空穴的复合,提高其分离效率。就氧化钨本身来说,不同结构维度的 氧化钨会具有不同的结构、形貌、尺寸和比表面积。而这些因素都会影响到氧化钨的光吸收和电子传输等性能,进而影响到光催化效率。
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