单质钨膜的制备方法

本发明提供一种单质钨膜的制备方法，其包括以下工艺：

将基体加热至１００～１５０℃；然后在磁控溅射设备中，氩气环境下采用纯钨靶在基体上溅射沉积钨膜。

由本发明方法制备的单质钨膜纳米力学性能均匀优异，纳米硬度是钨块硬度的三倍以上，组织紧密，分布均匀，防护性能良好且钨膜晶粒较细，具有较多的晶界，与基体结合良好，从而更有利于进一步渗硫处理时得到ＷＳ2固体润滑薄膜，本发明所述磁控溅射方法操作简便，技术可靠，可适用广泛的薄膜制备。

钨产品生产商、供应商：中钨在线科技有限公司
产品详情查阅：http://www.chinatungsten.com
订购电话：0592-5129696 传真：0592-5129797
电子邮件：    sales@chinatungsten.com
钨图片网站：http://image.chinatungsten.com
钨视频网站：http://v.chinatungsten.com
钨新闻、价格手机网站，3G版：http://3g.chinatungsten.com

• < 上页
• 下页 >