稀土钨，全名为钨-稀土氧化物合金（W-REO），是钨与稀土元素氧化物组成的钨基合金，属于氧化物弥散强化型合金，常用的稀土氧化物如理CeO2(氧化铈)，La2O3（氧化镧），Y₂O39、（氧化钇）等。

钨铼合金(W-Re alloy)是以钨元素为基体且与铼元素组成的固溶强化型合金。合金中常用的铼含量通常以质量分数表示，为3%、5%、10%、25%和26%，一般而言，分为低铼合金（含铼在5%以下）和高铼合金（含铼在15%以上）。

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，简而言之，就是由特殊材料制成的合金膜在工作中接受高速荷能粒子的冲撞。由于钨具有耐热耐磨的特长，所以也被现代科技工业用来制造镀膜靶材。

致密钨和高纯钨是指纯度高于99.99%以上的纯钨，一般标记为4N，高纯钨是指纯度达到99.999%和99.9999%的钨粉，一般标记为5N或6N，英文名为high-purity tungsten。致密钨、高纯钨及其硅化物主要用于超大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层等以及在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等，市场价格昂贵。