数码相机锂电池正极掺二硫化钨纳米片

就新一代的锂电池正极材料来说，其之所以较适合选用过渡金属二硫化钨纳米片来作为改性剂的原因是，该纳米片具有比石墨烯更大的层间距与更好的热力学性能。换句话来说，含有二硫化钨纳米片的化学电池拥有较为优秀的充放电倍率性能与安全性能，更适合为现代的数码相机提供能量。下面，我们一起来了解一下二硫化钨的生产工艺。

一种制备二维二硫化钨的方法的具体步骤如下：

1、清洗衬底。

(1)按尺寸挑选硅片，处理后硅片表面覆盖了一层二氧化硅，二氧化硅表面抛光， 二氧化硅的厚度可以是100-300nm，形成二氧化硅/硅衬底。该衬底放置于加入洗洁剂的去 离子水中，超声30-60min；

(2)将衬底用去离子水冲洗干净并在去离子水中超声10-30min；

(3)将衬底放入无水乙醇溶液中超生10-20min后取出用去离子水冲洗干净并在去离子水中超声10-20min；

(4)将衬底放入丙酮溶液中超声15-25min后取出用去离子水冲洗干净并在去离子水中超声10-20min，最后放置于无水乙醇中备用。

2、将一定重量的S放置于石英舟中并将其置于距管式炉进气口25cm处；将一定重量的WO3放置于另外一个石英舟中，将二氧化硅/硅衬底斜搭在石英舟上，将其置于加热区中心。管式炉预先通氮气25-60分钟，氮气流量为60-200sccm，将管中空气排净。

3、将氮气流量调整为50-200sccm，以15-30℃/min的加热速度将管式炉升温至800-950℃，保温15-45min。

4、待管式炉自然降温到室温时，降至室温时取出样品，打开炉盖取出样品。

该生产方法的优势如下：(1)二维二硫化钨的生长过程可控；(2)制备的二维二硫化钨面积大，三角形晶粒的边长可达120μm左右，连续薄膜的横向尺寸可达毫米量级；(3)简化了衬底的清洗方式、过程，减少了清洗衬底的操作步骤；(4)采用常压化学气相沉积法，不需要抽真空过程，进一步减少了操作步骤，使得实验可以快捷方便地进行。

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