钛掺杂WO3薄膜

专家采用金属钨与钨钛合金靶材，通过脉冲直流反应磁控溅射法制备得到钛掺杂WO3薄膜。

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专家们通过X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱、电化学工作站等分析测试手段，研究了薄膜厚度，和基片温度、氧气分压等镀膜工艺参数对薄膜晶体结构、表面形貌以及诸如调制幅度、响应时间、变色效率、循环寿命等电致变色性能的影响。他们还对比了三氧化钨电致变色薄膜掺杂Ti前后结构、表面形貌与性能的不同，阐述了Ti元素掺杂对氧化钨电致变色的影响机制。专家发现，WO3薄膜着色前后晶格应变和表面粗糙度发生变化，随着薄膜厚度增加，变化值均先减小后增大，在厚度为250nm时变化值最小，这时三氧化钨有较高的光学调制幅度和变色效率。因此，250nm是三氧化钨薄膜作为电致变色功能层的最佳厚度。

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