光诱导金属有机物分解过程：一个新颖的技术介电薄膜生长

详细资料: 分类：蓝宝石长晶炉-钨制品新闻; 发布于 2013年12月13日星期五 09:57; 点击数：2853

一种新颖的光诱导金属有机分解（PIMOD）工艺已发展为生长在硅或蓝宝石衬底的高质量的铌酸锂的膜裂纹，并在较短的处理时间的温度低于所要求的常规的MOD法的相互扩散的无膜已生长的PIMOD过程。被报告的PIMOD衍生薄膜的电学，光学和电光学特性。

单晶层已经上外延生长用金属锌和硒配方和蓝宝石衬底。喷嘴的硒流被放置在所述基板的前约1厘米，并且这种安排导致少得多的硒消耗比当喷嘴从基板被进一步分离的情况。外延条件进行了调查作为源和衬底温度的函数。当基片温度和源温度的一个是固定的，生长速率的增加而其它源的温度，然后用饱和。低于饱和点时，生长速率正比于流速和每个源材料的蒸气压。依赖于生长速率衬底温度显示为下方770℃表面控制的现象，是质量传递控制的现象，上述770 ℃下1上式衬底上外延生长发生在650 ° -880 ℃，生长速率范围从1到30微米/小时的基板温度范围。在作为生长层的电阻率太高（ 106 Ω·cm的）被用于LED应用是有用的。

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