钨铌靶材具有高强度、高硬度、耐磨、耐腐蚀和良好耐热性能等特点，因而广泛应用于高压、高转速、高温、腐蚀性介质等工作环境。然而，在溅射过程中，靶材的边缘处会留有溅射产生的颗粒物，而这些颗粒物一旦剥落，不仅会影响溅射环境，还降低产品质量。为了解决这个问题，现有技术对该靶材的部分非溅射区域进行了改性，即经过喷砂的部分的表面较粗糙，更容易吸附颗粒物，以减低剥落概率。

三氧化钨（WO3），是钨的氧化物中最为稳定的一种，亦是从钨矿制取单质钨工业的重要中间体。因其具有良好的光致变色、电致变色及气致变色等性能，可广泛运用在军事国防、医护领域、环保节能等不同领域，如用三氧化钨制作钨丝。

作为集成电路中重要的扩散阻挡层，钨钛（W-Ti）薄膜虽然有较高的密度和良好的化学稳定性，但因为钨钛靶材存有污染物粒子，所以薄膜欠佳。为了降低靶材的污染物，研究者提出了一种高纯钨钛靶材的新制备方法，具体步骤如下：

三氧化钨（WO₃）组成简单，在不同的温度下有不同的形貌结构，它在-40℃至740℃的温度之间可产生以下四种晶体结构：单斜晶系、三斜晶系、正交晶系和四方晶系。