电致变色薄膜用三氧化钨纳米盘

三氧化钨纳米盘可以用于制备电致变色薄膜，最终应用于建筑智能窗上，起到节能降耗的作用，也就是大家所关心的隔热保温效果。

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有专家对这三氧化钨纳米盘的结构形貌进行分析。三氧化钨纳米盘的XRD图（a）以及场发射扫描电子显微镜照片（b）如下所示。

从图中可以看出，XRD图谱对应于正交相WO3∙0.33H2O的衍射峰，证明未掺杂条件下所制备WO3为水合WO3。而从场发射扫描电子显微镜照片中可以看出，其形貌为由纳米盘组装形成的雪花状团簇，其中单个纳米盘的厚度大约在30nm左右，雪花状团簇的尺寸在1µm左右。这种较大的尺寸使其在应用过程中很难获得稳定的墨水以及均匀的薄膜，并且较大尺寸会增大离子/电子在材料内部的传输路径，影响其响应速度。所以，这时候，需要对三氧化钨进行掺杂。掺杂不仅可以提高材料的电子传输效率，而且可以增大晶体结构无序性并最终影响材料生长。因此，在制备过程中，专家会加入氧化钼等增大晶体结构无序性，以此降低所制备水合WO3的尺寸，并提高电致变色性能。

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