WO3涂层玻璃

WO3涂层玻璃可以通过溅射法制备得到。目前，国外一些公司已经通过溅射法大规模批量生产三氧化钨涂层玻璃，因为溅射法具有薄膜厚度均匀、薄膜与基底附着力强以及适用于大规模生产等优点。

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上面提到的溅射法是磁控溅射。磁控溅射是制备WO3电致变色薄膜最常用的一种物理气相沉积（PVD）技术，其通过荷能粒子轰击靶材表面，使靶材表面的原子射出发生起辉效果，从而沉积到基底表面形成薄膜。目前，对于溅射法制备三氧化钨电致变色薄膜的研究主要通过改变实验参数调控电致变色薄膜的孔隙度、化学组成等，从而达到电致变色性能的优化。

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