Ni掺杂氧化钨可以采用磁控溅射法制备得到，所得粉末可以用于制备WO3薄膜。有专家以磁控溅射法制备Ni掺杂WO3，研究结果表明：

掺杂Ni后，WO3的可见光透过率降低而着色性能提高，且在低浓度掺杂时效果更明显，而在高浓度掺杂时效果降低；最佳Ni掺杂量在7.8%左右。

Ti掺杂氧化钨的多项性能均比纯氧化钨的好。具体地，有专家采用磁控溅射法制备Ti掺杂氧化钨薄膜，测试结果表明：

Mo掺杂氧化钨可以用于制备电致变色纳米薄膜。具体地，有专家以MoO3掺杂氧化钨制备了一种纳米薄膜，并对其电致变色性能进行了测试，结果表明：

掺杂氧化钨也就是将氧化钨材料通过合理地掺杂不同的元素获得的材料。专家表示，通过掺杂不同的元素，可以使氧化钨的结构和功能特性得到明显改善，如调节其吸收光谱，提高其电致变色性能、气敏性、催化性能等。也就是说，以该种氧化钨纳米材料为原料生产所得的电致变色玻璃的智能隔热性能将得到提升。