Ta掺杂氧化钨电致变色薄膜中，Ta掺杂量的多少会影响三氧化钨薄膜光谱调制能力的好坏。氧化钨薄膜的光学调制幅度ΔT为着色态与退色态透射率的差值。

相对于三氧化钨薄膜，钽掺杂WO3薄膜的着色效率有所提高，即薄膜的电致变色性能改善了，其中，钽掺杂量的临界值为15%，过度的掺杂则不利于薄膜呈现出高的电致变色效率。

薄膜的循环寿命是电致变色材料应用的一个重要参数，也是评价其性能好坏的重要标准之一。因而，有专家采用循环伏安法对Ta掺杂WO3薄膜的循环寿命进行测试，即在薄膜样品上反复施加-0.6～+0.6V的电压，使薄膜循环着退色多次，观察样品在50次循环后的循环伏安曲线的稳定性。未掺杂和掺杂15%钽的氧化钨薄膜的循环伏安曲线如下图所示。

Ta掺杂氧化钨薄膜的电致变色性能是怎样的情况？有专家通过下列实验获知。

专家表示，室温下沉积获得的纯三氧化钨薄膜为非晶态电致变色薄膜，薄膜表面光滑，质地均匀且多孔。而钽掺杂纳米三氧化钨电致变色薄膜也是非晶结构。当钽掺杂量在一定范围内时，薄膜表面光滑均匀。随着钽掺杂量的增加，开始有较大的颗粒镶嵌在薄膜内部，这些颗粒较为致密，破坏了薄膜的多孔性和均匀性。当掺杂量达到35%时，在薄膜表面甚至出现了微米级别的颗粒。

掺Ta三氧化钨就是将Ta2O5与WO3相复合，可以结合两种材料的优势，实现更高的机械和化学相容性，从而提高器件的稳定性和寿命，也就是说，以此复合材料制备得到的电致变色薄膜的性能将得到改善。

钽掺杂氧化钨可以用于制备电致变色薄膜，而钽掺杂的氧化钨电致变色薄膜可以采用磁控溅射方法制备得到，以改善氧化钨电致变色薄膜的电化学循环稳定性。

结晶态三氧化钨膜可以通过磁控溅射沉积再通过热处理获得。通过磁控溅射沉积获得的是非晶态三氧化钨膜，在空气中分别加热200℃，250℃，300℃，350℃及400℃，并保温30min进行热处理。随着热处理温度的提高，非晶态三氧化钨膜的电致变色性能下降。当热处理温度高于350℃时，非晶态转变成结晶态。

三氧化钨可以用于制备电致变色薄膜，最终以电致变色玻璃即智能窗的形式应用到建筑玻璃上，起到节能降温的作用。

氧化钼掺杂氧化钨电致变色薄膜的着色态和漂白态的颜色都比纯氧化钨薄膜深。这是因为MoO3本身是一种变色特性类似WO3的电致变色材料，其着色态呈蓝紫色，漂白态呈黄色。而纯氧化钨薄膜的着色态呈蓝色，漂白态几乎无色透明。