染料，是与人类生活关系最为密切的化学品之一。但在光鲜亮丽的背后，传统染料工业却是一个高污染行业，废水、废气、固体废物的排放量较大，染料行业历次污染事件都伴随着强烈的视觉冲击，造成了较为恶劣的影响。环保是燃料行业永恒的主题，“三废”治理达标排放，已经成为决定企业生死存亡的关键。因而，染料行业的绿色转型成为一直以来环境科学工作者们致力研究的对象。

 

近十多年来，各国的环境科学工作者采用以半导体为催化剂的光催化技术处理方法，对印染废水处理的可行性进行了大量的研究。光催化发展的最初阶段是以二氧化钛为光催化剂，利用太阳光的照射，进行有机物的降解。然而，由于二氧化钛只响应紫外线，未能充分利用光能，因而，其应用受到一定的限制。

 

研究结果表明，三氧化钨光触媒由于具有很强的氧化能力，且响应可见光，能充分利用光的能量，使得有机污染物最终完全氧化分解。最初报道以三氧化钨为光催化剂处理印染废水的研究是在1985年，其结果表明：当可见光照射到悬浮于水溶液中的半导体粉末时，染料分子被分解为二氧化碳、水和氮气等，从而降低了COD和色度。另外，研究发现，在三氧化钨基质中加入适量的CdS（硫化镉）和少量的钨粉，形成复相光催化剂，能提高染料废水的COD和色度的去除率，对印染废水进行深度处理。